Uygulamalar

Litografi

X-Y koordinat tablaları için yüksek hassasiyetli lineer kılavuzlama sistemi

Çiplere yapıları doğru uygulamak için bunlar, ışığa son derece hassas fotografik cila ile kaplanırlar. Fotografik cila, maskelenir ve ışık düştüğü yerde dağılır.

Yeni nesil yarı iletken üretiminde amaç, yüksek saklama yoğunluğu ve iletim hızları elde etmek için 60 nm'den küçük boyutlu ürünler oluşturmaktır.

Doğrusal motorların tahrik ettiği X-Y koordinat tablaları, baskı materyalini ve yansıtma maskesini hareket ettirir. Bu makine sert, titreşim sönümlemeli granit yatağı ve yüksek hassasiyetli kılavuzlama sistemlerine dayanır örneğin, INA masuralı lineer kılavuzlama sistemi RUE. Bu son derece düşük gürültülü kılavuzlama sistemleri, yüksek üretkenlik ve konumlama hassasiyeti için düzgün çalışma- ve hareket dirençleriyle tanınır.